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纳米胶体磨

简要描述:SGN纳米胶体磨是普通的胶体磨的速度的4-5倍以上,可达14000rpm,分散乳化均质研磨效果非常好。根据一些行业的特殊要求, SGN 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-04-04
  • 访  问  量:1654
详情介绍
    纳米胶体磨组成:是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

    SGN在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速纳米胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

    GMS2000速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款纳米高速胶体磨比普通胶体磨速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

    SGN选型表:

超高速胶体磨 流量* 输出 线速度 功率 入口/出口连接
类型 l/h rpm m/s kW  
GMS 2000/4 700 14,000 44 4 DN25/DN15
GMS 2000/5 3,000 10,500 44 11 DN40/DN32
GMS 2000/10 8,000 7,300 44 22 DN50/DN50
GMS 2000/20 20,000 4,200 44 37 DN80/DN65
GMS 2000/30 40,000 2,850 44 55 DN150/DN125
GMS 2000/50 80,000 2,000 44 110 DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。
 

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