研磨分散机

简要描述：研磨分散机厂家SGN银粉研磨分散设备采用*的结构设计将传统的胶体磨和分散机合二为一，并配合超高速的转速，转速可达14000rpm，研磨分散效果更佳。

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厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-04-02
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详情介绍

    研磨分散机组成：由高纯度的金属银的微粒、粘合剂、溶剂、助剂所组成的一种机械混和物的粘稠状的浆料。导电银浆对其组成物质要求是十分严格的。其品质的高低、含量的多少，以及形状、大小对银浆性能都有着密切关系。银粉的分散效果直接关系到银浆的质量。所以采用好的分散设备对银粉的分散是至关重要的，当然分散剂的应用也是*的。

    研磨分散机性能：纳米银粉分散混合设备，纳米银粉分散，银粉比表面积较大，易发生团聚很难分散，如何将银粉制成银浆？银浆的制备，炭黑的制备，银粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散机可帮您解决此类难题。结合客户实验案例，采用SGN进行银粉处理，不仅生产效率快，一般研磨5-10遍即可；而且这种方式相对于三辊机以及砂磨机而言，物料损失更小。

    厂家经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。

    ①线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是所说的湿磨。

    ②定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

    ③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    ④在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

    ⑤高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD 2000/4	300	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD 2000/5	1000	10,500	44	11	DN40/DN32
GMSD 2000/10	3000	7,300	44	22	DN80/DN65
GMSD 2000/20	8000	4,900	44	37	DN80/DN65
GMSD 2000/30	20000	2,850	44	55	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	2,000	44	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

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